JBX-3050MV serisi, 45 ila 32 nm tasarım kuralını karşılayan maske / retikül üretimi için bir elektron ışını litografi sistemidir. Bu sistem, üst düzey teknoloji ile elde edilen yüksek hız, yüksek doğruluk ve yüksek güvenilirlik ile desen yazma özelliğine sahiptir.